服务电话：
新闻中心
您当前的位置：首页 > 新闻中心
-
02
2025-04
星期 三
-
无锡第三代半导体管式炉氧化炉 赛瑞达智能电子装备供应
由于管式炉工作时涉及高温、高压和有毒有害气体，完善的安全防护机制必不可少。管式炉配备了多重温度保护装置，当炉内温度超过安全上限时，系统自动切断加热电源，并启动降温风扇，防止设备过热引发火灾。压力保护方面，安装有压力传感器和安全阀，
-
02
2025-04
星期 三
-
无锡一体化管式炉 赛瑞达智能电子装备供应
在半导体设备管式炉的运作里，加热速率的精确调控至关重要。其加热速率调控依托于复杂且精妙的系统。加热元件的功率输出是关键因素，通过先进的电源控制系统，能够根据预设程序快速调整加热元件的电流，进而改变其发热功率。例如在一些需要快速升温
-
02
2025-04
星期 三
-
无锡8英寸管式炉真空退火炉 赛瑞达智能电子装备供应
定期维护保养是保证管式炉长期稳定运行和半导体工艺精度的关键。日常维护包括清洁设备表面，检查加热元件是否有损坏、松动，确保气体管道无泄漏。定期维护时，要对温度传感器进行校准，保证温度测量的准确性。对于炉管，需检查是否有裂纹、磨损，及
-
02
2025-04
星期 三
-
无锡6英寸管式炉掺杂POLY工艺 赛瑞达智能电子装备供应
半导体薄膜沉积工艺是在硅片表面生长一层具有特定功能的薄膜，如绝缘膜、导电膜等，管式炉在这一工艺中扮演着重要角色。在化学气相沉积（CVD）等薄膜沉积工艺中，管式炉提供高温环境，使通入的气态源物质在硅片表面发生化学反应并沉积形成薄膜。
-
02
2025-04
星期 三
-
无锡6英寸管式炉氧化退火炉 赛瑞达智能电子装备供应
现代半导体设备管式炉配备了先进的自动化操作界面，旨在为用户提供便捷、高效的操作体验。操作界面通常采用直观的图形化设计，各类参数设置和设备状态信息一目了然。用户通过触摸屏幕或鼠标点击，即可轻松完成管式炉的启动、停止、温度设定、气体流
推荐资讯